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塑料模具拋光方法【1】
來源:[seo:selfurl]
發(fā)布時(shí)間:2019-11-11
目前常用的拋光方法有以下幾種:
1)機(jī)械拋光
機(jī)械拋光靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特-殊0件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔-助工具,表面質(zhì)量 要求高的可采用chao精研拋的方法。chao精研拋是采用特-制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)-運(yùn)動(dòng)。利用該技數(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是拋光方法中蕞高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
2)化學(xué)拋光
化學(xué)拋光-讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多任務(wù)件,效率高。化學(xué)拋光的核-心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
3)電解拋光
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消陰及反應(yīng)的影響,校果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步:
(1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整 陽(yáng)亟亟化,表面光亮度增加,Ra<1μm。
1)機(jī)械拋光
機(jī)械拋光靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特-殊0件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔-助工具,表面質(zhì)量 要求高的可采用chao精研拋的方法。chao精研拋是采用特-制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)-運(yùn)動(dòng)。利用該技數(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是拋光方法中蕞高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
2)化學(xué)拋光
化學(xué)拋光-讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多任務(wù)件,效率高。化學(xué)拋光的核-心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
3)電解拋光
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消陰及反應(yīng)的影響,校果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步:
(1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整 陽(yáng)亟亟化,表面光亮度增加,Ra<1μm。
上一條:塑料模具拋光方法【2】
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